2021 2021年春光电成像原理与技术（何玉青）(北京理工大学) 最新满分章节测试答案
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本课程起止时间为:2021-03-01到2021-06-30
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第一周 第一章 绪论 第一章单元测验
1、 问题:直视型光电成像系统成像时需要几个必须的环节（光学图像的形成；电荷或电子图像的形成；电荷图像的扫描读出；电子图像的增强与聚焦成像；图像信号的传输与处理；图像的发光与显示）
选项：
A:2个
B:3个
C:4个
D:5个
答案: 【4个】
2、 问题:电视型光电成像系统成像时需要几个必须的环节（光学图像的形成；电荷或电子图像的形成；电荷图像的扫描读出；电子图像的增强与聚焦成像；图像信号的传输与处理；图像的发光与显示）
选项：
A:2个
B:3个
C:4个
D:5个
答案: 【5个】
3、 问题:什么是图像？如何理解图像的物理意义？
选项：
A:图像是二维分布的光强在人脑中的刺激
B:图像是景物在印刷物表面上的灰度分布或者色彩明度分布
C:图像是打印在纸上的景物
D:图像是二维的不同灰阶组成的点阵
答案: 【图像是二维分布的光强在人脑中的刺激;
图像是景物在印刷物表面上的灰度分布或者色彩明度分布;
图像是二维的不同灰阶组成的点阵】
4、 问题:下面哪些是描述光电成像器件或系统成像能力的参数？
选项：
A:分辨力
B:点扩散函数
C:光学传递函数
D:图像信噪比
答案: 【分辨力;
点扩散函数;
光学传递函数】
5、 问题:光电成像包含了两方面的光辐射利用：可见光及近红外等环节的成像利用的是来自景物的反射信息；中、长波红外等环节成像利用的是来自景物的辐射信息。
选项：
A:正确
B:错误
答案: 【正确】
6、 问题:光电成像与光电探测的差异是探测器原理上的不同，光电倍增管不能用来成像。
选项：
A:正确
B:错误
答案: 【错误】
7、 问题:描述光电成像器件或系统性能好坏的特性指标有( )类。（请回答数量）
答案: 【(以下答案任选其一都对)4;
四】
8、 问题:描述光学成像系统性能好坏的特性指标是（ ）特性。
答案: 【(以下答案任选其一都对)成像分辨;
成像;
分辨;
图像分辨】
第二周 第二章 电子束扫描成像技术 第二章测验
1、 问题:光电发射型摄像管的主要部件包括___
选项：
A:光电阴极
B:靶
C:电子枪
D:场网
答案: 【光电阴极;
靶;
电子枪;
场网】
2、 问题:关于热释电靶，以下说法正确的是____。
选项：
A:晶体在没有外加电场和应力的情况下，具有自发的或永久的极化强度
B:当温度降低时晶体电极化强度降低
C:热释电晶体的表面束缚面电荷密度等于自发电极化强度
D:热释电靶工作时，靶上的自发极化强度随靶温变化相应地改变
答案: 【晶体在没有外加电场和应力的情况下，具有自发的或永久的极化强度;
热释电晶体的表面束缚面电荷密度等于自发电极化强度;
热释电靶工作时，靶上的自发极化强度随靶温变化相应地改变】
3、 问题:通常热释电摄像管采用的图像入射方式有如下几种____。
选项：
A:凝视型
B:平移式
C:摄全景
D:斩光式
答案: 【平移式;
摄全景;
斩光式】
4、 问题:光电发射型摄像管的光电变换采用光阴极，其与信号存贮靶分开，中间有移像区。
选项：
A:正确
B:错误
答案: 【正确】
5、 问题:摄像管视频信号形成的过程包含充电和放电过程，放电过程中在靶的扫描面上像元的电位是降低的。
选项：
A:正确
B:错误
答案: 【错误】
6、 问题:电视摄像的本质是将二维空间分布的光学图像转换为（ ）变化的视频电信号。
答案: 【(以下答案任选其一都对)一维时间;
时间;
随时间】
7、 问题:摄像管分辨力以画面垂直方向或水平方向尺寸内所能分辨的黑白条纹数来衡量，简称（ ）
答案: 【(以下答案任选其一都对)电视线;
TVL;
电视线或TVL;
电视线（TVL）】
8、 问题:在热释电摄像管中，通过外加电场作用使铁电体产生较强的均匀自发极化强度的过程叫作（ ）。
答案: 【单畴化】
第四周 第三章 电子光学聚焦成像技术 第三章测验
1、 问题:请根据摄像管和像管的工作原理确定下面正确的说法。
选项：
A:摄像管和像管都是电真空成像器件，且都可以对光学图像进行探测成像和发光显示；
B:像管是直视型成像器件，所有的工作环节都在一个真空结构里完成；摄像管是电视型成像器件，相关的真空结构只能将光学图像转换为一维的时间序列电信号；
C:二者进行光电转换的物理机理不同，像管使用外光电效应摄像管使用内光电效应；
D:二者进行光电转换的物理机理相同，均使用外光电效应。
答案: 【像管是直视型成像器件，所有的工作环节都在一个真空结构里完成；摄像管是电视型成像器件，相关的真空结构只能将光学图像转换为一维的时间序列电信号；】
2、 问题:实用光电阴极多采用如下的哪一种半导体结构：
选项：
A:P型半导体N型表面态，二者形成统一费米能级后，表面的N型区会导致表面处的能带向下弯曲，使结构整体的电子亲和势（表面势垒）等效降低，有利于光电子的逸出；
B: N型半导体P型表面态，二者形成统一费米能级后，表面附件会形成尖薄的表面势垒，形成隧穿效应，有利于光电子的逸出；
C:P型半导体N型表面态，二者形成统一费米能级后，表面附件会形成尖薄的表面势垒，形成隧穿效应，有利于光电子的逸出；
D:N型半导体P型表面态，二者形成统一费米能级后，表面的N型区会导致表面处的能带向下弯曲，使结构整体的电子亲和势（表面势垒）等效降低，有利于光电子的逸出。
答案: 【P型半导体N型表面态，二者形成统一费米能级后，表面的N型区会导致表面处的能带向下弯曲，使结构整体的电子亲和势（表面势垒）等效降低，有利于光电子的逸出；】
3、 问题:哪个关于电子光学系统的说法更符合电子光学系统的定义和作用。
选项：
A:电子光学系统是在电真空环境中控制电子束聚焦成像在确定位置上的电极结构及其上电压。
B:电子光学系统是由描述电子在电磁场中运动的运动方程和轨迹方程。
C:电子光学系统是发生光电变换的场所；
D:电子光学系统是将电子变成光的系统。
答案: 【电子光学系统是在电真空环境中控制电子束聚焦成像在确定位置上的电极结构及其上电压。】
4、 问题:影响荧光屏的图像分辨力主要因素是：
选项：
A:构成荧光屏的荧光粉材料的发光效率和厚度；
B:构成荧光屏的荧光粉颗粒大小和加速电压；
C:构成荧光屏的荧光粉颗粒大小和荧光屏的厚度；
D:构成荧光屏的荧光粉材料的发光效率和加速电压。
答案: 【构成荧光屏的荧光粉颗粒大小和荧光屏的厚度；】
5、 问题:像管的成像需要哪些主要物理过程?
选项：
A:将景物的光学图像变为光电子图像的光电转换过程；
B:将增强后的光电子图像转换为人眼肉眼可见的光学图像的过程；
C:对二维分布的光电子图像进行聚焦成像和能量增强的过程；
D:通过电子枪对荧光屏进行扫描发光成像的过程。
答案: 【将景物的光学图像变为光电子图像的光电转换过程；;
将增强后的光电子图像转换为人眼肉眼可见的光学图像的过程；;
对二维分布的光电子图像进行聚焦成像和能量增强的过程；】
6、 问题:目前公认的光电阴极完成光电子发射包括哪些物理过程?
选项：
A:来自景物的光子激发光电阴极材料中的电子产生电子空穴对，在半导体内形成自由电子；
B:自由电子在半导体材料中运动向半导体材料表面迁移，伴有一定的能量损失；
C:由于能量的损失，到达表面的部分电子能量低于真空能级，电子无法逸出到真空中；
D:到达表面的电子剩余能量高于真空能级电子逸出表面成为真空中的光电子。
答案: 【来自景物的光子激发光电阴极材料中的电子产生电子空穴对，在半导体内形成自由电子；;
自由电子在半导体材料中运动向半导体材料表面迁移，伴有一定的能量损失；;
由于能量的损失，到达表面的部分电子能量低于真空能级，电子无法逸出到真空中；;
到达表面的电子剩余能量高于真空能级电子逸出表面成为真空中的光电子。】
7、 问题:电子光学系统与光学系统的区别在于：
选项：
A:电子光学系统的折射率可以是任意的值，而普通光学系统的折射率在1到2.5之间；
B:电子光学系统中电子的轨迹是连续变化的曲线，而普通光学系统中光线的轨迹只能是直线；
C:电子光学系统中的电子光学折射率是空间位置的函数，而普通光学系统的折射率只与材料有关，是固定不变的；
D:电子光学系统的边界一旦确定则折射率的空间分布便也完全确定，不能象普通光学系统那样可以修改形貌而不改变其折射率。
答案: 【电子光学系统的折射率可以是任意的值，而普通光学系统的折射率在1到2.5之间；;
电子光学系统中电子的轨迹是连续变化的曲线，而普通光学系统中光线的轨迹只能是直线；;
电子光学系统中的电子光学折射率是空间位置的函数，而普通光学系统的折射率只与材料有关，是固定不变的；;
电子光学系统的边界一旦确定则折射率的空间分布便也完全确定，不能象普通光学系统那样可以修改形貌而不改变其折射率。】
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